外国為替管理令及び輸出貿易管理令の一部を改正する政令

第２条　輸出貿易管理令（昭和24年政令第378号）の一部を次のように改正する。

第１条第２項中

「一四」を「一五から二三まで、二五、二六、二七」に、

「から三四まで」を「、三三、三四、三四の二」に改め、

「三七」の下に「、三八」を、

「五三」の下に「から五五まで、五六、五七」を、

「六八」の下に「、七〇から七二まで、七四から七八まで、七九、八〇」を加え、

「一五九まで及び一六一から一七一まで」を「一〇〇まで、一〇一、一〇二から一〇五まで、一〇六から一〇九まで、一一〇から一四三まで、一四四から一四七まで、一四八から一五九まで、一六一から一六九まで、一七〇及び一七一」に改める。

第４条第１項中

「三八、六三、八六」を「一四、二四、二六の二、三〇の二、三二の二、三三の二、三三の三、三八、五〇の二、五五の二、五六の二、五六の三、六三、七三、七三の二、七八の二、七九の二、八六、一〇〇の二、一〇一の二、一〇五の二、一〇九の二、一四三の二、一四三の三、一四七の二、一四七の三、一五九の二、一六九の二から一六九の一〇まで」に改める。

別表第１の三の項中

「モノシラン、モノクロロシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン及びテトラクロロシランであつて、純度が99.5パーセント」を「けい素化合物であつて、当該多結晶のシリコンの合成又はシリコン、酸化けい素若しくは窒化けい素のエピタキシャル成長に使用するもので、純度が99.5パーセント（ジクロロシランにあつては、97.0パーセント）」に改める。

別表第１の五の項中

「99.999パーセント」を「99.9995パーセント」に改める。

別表第１の七の項イからハまでを次のように改める。

イ　照射された部分のみが現像液に溶解するもの

ロ　照射された部分以外の部分のみが現像液に溶解するものであつて、次のいずれかに該当するもの

(一)350ナノメートル未満の波長の紫外線で使用するように設計したもの

(二)１平方センチメートル当たり100マイクロクーロン以下の電気量を照射する電子ビーム又はイオンビームに対する感度を有するもの

(三)１平方センチメートル当たり500ミリジュール以下のエネルギーを照射するエックス線に対する感度を有するもの

ハ　乾式現像に用いるもの

別表第１の八の項の次に次のように加える。

八の２

ベリリウム、マグネシウム、亜鉛、カドミウム、水銀、アルミニウム、ガリウム、インジウム、燐、砒素、アンチモン、セレン又はテルルの有機金属化合物及び水素化合物であつて、これらの金属の含有量が当該化合物に含まれる金属の全重量の99.999パーセント以上のもの

特定地域

別表第１の一〇の項中

「径が100ミクロン未満」を「径の平均値が10ミクロン未満で、かつ、純度が99パーセント以上」に改め、

「孔径が25ミクロン以下の」を削る。

別表第１の一一の項イ中

「合金鋼」を「結晶粒の方位が同一である鉄合金」に改め、

同項ニ中

「12,000,000ガウスエルステッドを超える」を「25,000,000ガウスエルステッド以上の」に改め、

同項ホを削り、

同項ヘを同項ホとし、

同項ホの次に次のように加える。

ヘ　板状の非晶質の合金であつて、次の(一)及び(二)に該当するもの

(一)鉄、コバルト若しくはニッケルのいずれかの含有量又はこれらの含有量の合計が全重量の75パーセント以上のもの

(二)飽和磁束密度が1.6テスラ以上のものであつて、次のいずれかに該当するもの

１　厚さが0.020ミリメートル以下のもの

２　断面積が１平方センチメートルで長さが１センチメートルの場合の電気抵抗が0.0002オーム以上のもの

別表第１の一三の項中

「もの（」の下に「一四の項に掲げるものを除き、」を加える。

別表第１の一四の項中

「（一三の項に掲げるものを除く。）」を削り、

「特定地域」を「全地域」に改める。

別表第１の一六の項中

「デジタル制御方式」を「蓄積プログラム制御方式（マイクロプロセッサーによりあらかじめ記憶させたプログラムを用いて制御を行う方式をいう。以下同じ。）」に改める。

別表第１の一七の項ロ(六)を同項ロ(八)とし、

同項ロ(五)中

「80デシベル」を「92デシベル」に改め、

同項ロ中

(五)を(七)とし、

(四)を(六)とし、

(三)を(五)とし、

同項ロ(二)中

「信号波を」を「搬送周波数を」に、

「信号波に対する位相雑音」を「搬送波に対する全位相雑音」に、

「信号波に対する振幅変調雑音」を「搬送波に対する全振幅変調位相雑音」に改め、

同項ロ(二)を同項ロ(四)とし、

同項ロ(一)の次に次のようを加える。

(二)搬送周波数に20,000ヘルツを加えた周波数において、搬送波に対する位相雑音の比がマイナス120デシベル未満のもの

(三)搬送周波数に100ヘルツを加えた周波数において、搬送波に対する位相雑音の比がマイナス106デシベル未満のもの

別表第１の一七の項ハ(一)を次のように改める。

(一)アルゴンレーザー発振器、クリプトンレーザー発振器又は非同調色素レーザー発振器であつて、次のいずれかに該当するもの

１　0.2ミクロン以上0.8ミクロン以下の波長範囲で使用するように設計したものであつて、持続波を発振し、かつ、最大定格出力が20ワット以下のもの又は１パルス当たり0.5ジュール以下のパルスのみを発振し、かつ、平均出力が20ワット以下のもの

２　0.8ミクロンを超え、１ミクロン以下の波長範囲で使用するように設計したものであつて、持続波を発振し、かつ、最大定格出力が10ワット以下のもの又は１パルス当たり0.25ジュール以下のパルスのみを発振し、かつ、平均出力が10ワット以下のもの

別表第１の一七の項ハ(五)２中

「2,500ワット」を「5,000ワット」に改め、

同項ハ(六)中

「1.06ミクロン」を「1.064ミクロン」に改め、

同項ハ(七)中

「1.06ミクロンの波長」を「1.05ミクロン以上1.06ミクロン以下の波長範囲」に改め、

同項ハ(九)及び(十)を次のように改める。

(九)同調パルスレーザー発振器（アルゴンレーザー発振器及びクリプトンレーザー発振器を除く。）であつて、次の１から４までに該当するもの

１　0.15ミクロン以上0.8ミクロン以下の波長範囲で使用するように設計したもの

２　パルス幅の最長持続時間が100ナノ秒以下のもの

３　１パルス当たり0.5ジュール以下のパルスのみを発振するもの

４　平均出力が10ワット以下のもの

(十)　１ミクロン未満の波長で使用するように設計した単一の素子からなる半導体レーザー発振器であつて、次のいずれかに該当するもの

１　価格表示読取り装置用のもの

２　データの書換えができないディスクを用いた画像若しくは音声の再生装置、レーザープリンター又は電子式複写機であつて、通商産業大臣が告示で定めるものに使用するもの

別表第１の一九の項中

「石油系鉱油」を「圧力油であつて、石油系鉱油」に、

「圧力油であつて」を「もので」に、

「超えるもの又は」を「超え、」に改める。

別表第１の二四の項を次のように改める。

末端にカルボキシル基または水酸基を有するポリブタジエン

全地域

別表第１の二五の項中

「ふっ化けい素樹脂」の下に「（25度の温度において測定した動粘度が0.005平方メートル毎秒以上のものを除く。）」を、

「180度以上」の下に「の温度」を加える。

別表第１の二六の項中

「3,560,000メートル未満の多相多結晶アルミナ繊維」を「10,000,000メートル未満で、かつ、シリカの含有量が全重量の３パーセント以上の多相多結晶アルミナ繊維短繊維」に改め、

「成型品」の下に「（二六の二の項に掲げるプリプレグ、プリフォーム及び成型品並びに複合材料を除く。）」を加え、

同項の次に次のように加える。

二六の２

23度の温度において測定した比弾性率が3,180,000メートルを超え、かつ、比強度が76,200メートルを超える繊維を使用したプリプレグ、プリフォーム及び成型品並びに炭素及び炭素繊維の組合せを用いた複合材料であつて、一六九の二の項に掲げるロケットまたは一六九の三の項に掲げるロケットの部分品の構造材料として使用するように設計したもの

全地域

別表第１の二七の項及び二八の項を次のように改める。

27	ふっ素化合物並びにその重合体及び共重合体並びにこれらの製品であつて、次のいずれかに該当するものイ　ジブロモテトラフロロエタン（純度が99.8パーセント以下で、かつ、径が200ミクロン以上の粒状の不純物を100ミリリットル当たり25個以上含んでいるものを除く。）ロ　パーフロロアルキルアミンハ　ポリクロロトリフロロエチレンであつて、油状又はワックス状に変性したものニ　ゴム状のふっ素化合物であつて、テトラフロロエチレン、クロロトリフロロエチレン、ビニリデンフロライド、ヘキサフロロプロピレン、ブロモトリフロロエチレン、ヨードトリフロロエチレン、パーフロロメチルビニルエーテル又はパーフロロプロポキシプロビルビニルエーテルのいずれか二以上の組合せからなる共重合体の含有量が全重量の95パーセント以上のものホ　ポリブロモトリフロロエチレンヘ　ビニリデンフロライドの共重合体であつて、平面状の結晶構造で構成されている部分の重量が全重量の75パーセント以上のものト　板状又は薄膜状のビニリデンフロライドの圧電重合体又は圧電共重合体であつて、厚さが200ミクロンを超えるものチ　ふっ素を含有するシリコーンゴム（結合ふっ素の含有量が全重量の10パーセント以上の有機中間物を含む。）リ　グリース、潤滑剤又は誘電用若しくは振動防止用の液体であつて、イからヘまでに該当するふっ素化合物又はその重合体若しくは共重合体の含有量の合計が全重量の85パーセント以上のものヌ　ニに掲げるふっ素化合物の製品であつて、航空機又は人工衛星その他の宇宙開発用の飛しょう体に使用するように設計したもので、当該ふっ素化合物の含有量が全重量の50パーセントを超えるもの	特定地域
28	重合体及びその製品であつて、次のいずれかに該当するものイ　ポリイミド（固体状のものを除く。）又はポリイミドの製品（厚さが0.254ミリメートル以下の板状のものであつて、通商産業大臣が告示で定めるものを除く。）ロ　ポリベンジミダゾール又はその製品ハ　ベンゼン環を有する複素環式ポリアミド又はその製品（繊維及び糸であつて、比モジュラスが１テックス当たり22.075ニュートン以下で、かつ、引張り応力が１テックス当たり0.970ニュートン以下のもの並びにこれらを用いた。パルプを除く。）ニ　ポリベンゾチアゾール又はその製品ホ　ポリオキサジアゾール又はその製品ヘ　ポリホスホニトリル又はその製品ト　ポリスチリルピリ又はその製品チ　熱可塑性液晶コポリエステルであつて、次のいずれかに該当するもの又はその製品 (一)テレフタル酸とパラヒドロキシ安息香酸とからなるエチレンのコポリエステル (二)テレフタル酸とパラヒドロキシ安息香酸とからなるフェニレン又はビフェニレンのコポリエステルリ　ポリベンズオキソゾール又はその製品ヌ　芳香族ポリエーテルエーテルケトン又はその製品ル　ブタジエンとアクリル酸との重合体、ブタジエンとアクリルニトリルとアクリル酸（同族体を含む。）との重合体若しくは末端にチオール基を有するポリブタジエン又はこれらの製品ヲ　末端にカルボキシル基を有するポリイソプレン又はその製品	特定地域

別表第１の二九の項の次に次のように加える。

二九の２

断熱材であつて、次のイからホまでに該当するもの

イ　2,000度を超える温度で使用することができるもの

ロ　密度が100キログラム毎立方メートルを超え、300キログラム毎立方メートル未満のもの

ハ　圧縮強さが0.1メガニュートン毎平方メートルを超え、1.0メガニュートン毎平方メートル未満のもの

ニ　曲げ強さが1.0メガニュートン毎平方メートルを超えるもの

ホ　炭素の含有量が当該断熱材の含有する固形分の重量の99.9パーセントを超えるもの

特定地域

別表第１の三〇の項中

「ほう素、」を削り、

「過酸化水素」の下に「（濃度が85パーセント以上のものに限る。）」を、

「過塩素酸アンモニウム」の下に「（三〇の二の項に掲げる過塩素酸アンモニウムの粉を除く。）」を加え、

「、ヒドラジン」及び「、ジメチルヒドラジン」を削り、

「ほう素化合物、ニオブ化合物、タンタル化合物及びほう素混合物」を「２オブ酸塩（純度が99パーセント以上のものに限る。）、タンタル酸塩（フロロタンタル酸塩を除き、純度が99パーセント以上のものに限る。）、次に掲げるほう素混合物並びにニオブとタンタルの化合物（タンタルの含有量が全重量の20パーセント以上で、かつ、ニオブの含有量がタンタルの含有量の1,000分の１未満のものに限る。）」に改め、

同項に次のように加える。

イ　窒化ほう素、水素化ほう素、窒化ほう素を含有する化合物若しくは混合物又はほう素を含有する有機化合物であつて、ほう素の含有量が全重量の５パーセント以上のもの

ロ　三酸化ほう素であつて、純度が99.9パーセント以上で、かつ、水の含有量が全重量の0.001パーセント以下のもの

別表第１の三〇の項の次に次のように加える。

三〇の２

濃度が70パーセント以上のヒドラジン、非対称ジメチルヒドラジン及び粒子が球形で、その大きさが均等であり、かつ、その径が500ミクロン未満の過塩素酸アンモニウムの粉

全地域

別表第１の三二の項中

「もの」の下に「（三二の二の項に掲げるアルミニウムの粉を除く。）」を加え、

同項の次に次のように加える。

三二の２

粒子が球形で、その大きさが均等であり、かつ、その径が500ミクロン未満のアルミニウムの粉であつて、純度が97パーセント以上のもの

全地域

別表第１の三三の項中

「、ジルコニウム、チタン、ウラン、タングステン、金属ボロン若しくは亜鉛若しくはこれらの合金」及び「又はミッシュメタルのいずれか」を削り、

同項の次に次のように加える。

三三の２	粒子の径が500ミクロン未満の粉末状の金属燃料であつて、ジルコニウム、チタン、ウラン、タングステン、金属ボロン若しくは亜鉛若しくはこれらの合金、マグネシウム又はミッシュメタルのいずれかの含有量が全重量の97パーセント以上のもの	全地域
三三の３	二四の項に掲げるポリブタジエン、三〇の二の項に掲げるヒドラジン、非対称ジメチルヒドラジン及び過塩素酸アンモニウムの粉、三二の二の項に掲げるアルミニウムの粉並びに三三の二の項に掲げる金属燃料の製造設備及び試験装置並びにこれらの部分品	全地域

別表第１の三四の項の次に次のように加える。

三四の２

三〇の項に掲げるほう素化合物及びほう素混合物の半製品及び一次製品

特定地域

別表第１の三八の項中

「塩化ホスホリル」を「亜燐酸ジメチル、亜燐酸トリメチル、塩化ホスホリル、三塩化燐」に改める。

別表第１の四六の項イ中

「ISO写真感度の求め方及び表示方法」を「ISOスピードの求め方」に改める。

別表第１の五〇の項中

「部分品」の下に「（五〇の二の項に掲げる重力計及び重力偏差計並びにこれらの部分品を除く。）」を加え、

同項の次に次のように加える。

五〇の２

航空機搭載用又は船舶搭載用の重力計及び重力偏差計であつて、測定精度が１ミリガル以下で、かつ、測定所要時間が２分以内のもの並びにこれらの部分品

全地域

別表第１の五五の項中

「又は一五九」を「、一五九又は一五九の二」に改め、

イを削り、

同項ロ中

「附属装置」の下に「（五五の二の項に掲げる振動試験装置及びその附属装置を除く。）」を加え、

同項ロを同項イとし、

同項ハを同項ロとし、

同項の次に次のように加える。

五五の２

デジタル制御方式の振動試験装置であつて、加振力が100キロニュートン以上のもの及びその附属装置

全地域

別表第１の五六の項中

「風洞」の下に「（五六の二の項に掲げる風洞を除く。）」を加え、

同項の次に次のように加える。

五六の２	マッハ数が1.4以上の速度の状態を作ることができる風洞	全地域
五六の３	推力が88,997ニュートン以上のロケット用の燃焼試験装置	全地域

別表第１の六七の項中

「製造設備」の下に「及び回収設備」を加える。

別表第１の六八の項ロ中

「テトラフロロエチレンの共重合体等又はテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロピレンとの共重合体」を「二七の項二に掲げるふっ素化合物」に改め、

同項ハ中

「テトラフロロエチレンの共重合体等」を「二七の項二に掲げるふっ素化合物」に改める。

別表第１の六九の項を次のように改める。

削除

別表第１の七三の項中

「特定地域」を「全地域」に改め、

同項の次に次のように加える。

七三の２

ロケットエンジンのノズル又は再突入機の先端部の製造用の機械装置、試験装置及び工具（型を含む。）であつて、次のいずれかに該当するもの並びにこれらの部分品及び制御装置

イ　構造材料の炭素の密度を増加させるためのもの

ロ　炭化水素の熱分解により生成する炭素を基材の表面に定着させるためのもの

全地域

別表第１の七四の項中

「零下170度」を「超電導電磁石、零下170度」に改め、

「設計した装置」の下に「及びその部分品並びに超電導材料」を加え、

「並びにその部分品及び附属品」を削り、

同項イ(一)中

「で、かつ、」を「のもの又は」に、

「３テスラ」を「１テスラ」に改め、

同項ロ中

「又は」を「若しくは」に改め、

「除く。)」の下に「又はその部分品」を加え、

同項二中

「又は論理装置」を「若しくは論理装置又はこれらの部分品」に改め、

同項ホ中

「位相変位装置」の下に「又はその部分品」を加え、

同項ヘ中

「又は」を「若しくは」に改め、

「もの」の下に「又はその部分品」を加える。

別表第１の七五の項中

「真空電気炉」を「電気炉」に改め、

ハを次のように改める。

ハ　真空誘導炉（１回の溶解量が2,275キログラムを超えるものに限る。）であつて、6.67パスカル未満の圧力及び1,100度を超える温度で金属を溶解し、かつ、溶解時の圧力を維持した炉室内の鋳型に溶湯を注入するように設計したもの

別表第１の七五の項に次のように加える。

ニ　内径が155ミリメートル以上の誘導コイルを有する誘導炉であつて、直径が130ミリメートル以上の加工材料を2,000度を超える温度に加熱することができるように設計したもの

別表第１の七七の項を次のように改める。

アーク発生装置及びこれを組み込んだ装置であつて、次のいずれかに該当するもの並びにこれらの部分品、附属品及び制御装置

イ　イオン化ガスの噴出によりアーク柱の圧縮を起こさせるように設計したアーク発生装置。ただし、次のいずれかに該当するものを除く。

(一)溶接用、溶解用又は溶射用のものであつて、出力が100キロワット未満のもの

(二)切断用のものであつて、出力が235キロワット未満のもの

ロ　アーク柱の圧縮を起こさせるように設計したアーク発生装置を組み込んだ装置であつて、アーク柱の移動に係る最小設定単位が0.01ミリメートル未満のもの

ハ　イに該当するアーク発生装置を組み込んだ試験装置

特定地域

別表第１の七八の項中

「の製造機械であつて、」を「（二六の二の項に規定する繊維（以下「特定繊維」という。）の成型品を除く。）の製造用の機械装置（」に、

「できるもの並びにその」を「できるものに限る。）及び工具（型を含む。）並びにこれらの」に改め、

同項の次に次のように加える。

七八の２

特定繊維の成型品の製造用の機械装置（三軸（ロケット用又は航空機用の成型品の製造用に設計したものにあつては、二軸）以上の回転を相関して制御することができるものに限る。）及び工具（型を含む）並びにこれらの部分品、附属品及び制御装置

全地域

別表第１の七九の項中

「の製造機械であつて、」を「（特定繊維を除く。）の製造用の機械装置（」に、

「該当するもの、プリプレグ製造機械及びプリフォーム製造機械」を「該当するものに限る。」及び工具（型を含む。）並びに同項に掲げるプリプレグ又はプリフォーム（特定繊維を使用したプリプレグ及びプリフォームを除く。）の製造用の機械装置及び工具（型を含む。）」に改め、

同項の次に次のように加える。

七九の２

特定繊維の製造用の機械装置（次のいずれかに該当するものに限る）及び工具（型を含む）並びに特定繊維を使用したプリプレグ又はプリフォームの製造用の機械装置及び工具（型を含む。）並びにこれらの部分品及び附属品

イ　原料たる繊維を焼成し、又は配向のために加工するもの

ロ　熱せられた繊維に被覆材を真空蒸着するもの

ハ　耐火セラミックを紡糸するもの

ニ　繊維の表面処理をするもの

全地域

別表第１の八二の項中

「その部分品として用いる線形電圧差動変圧器並びに角度測定装置」を「角度測定装置並びにこれらの部分品」に改め、

同項イ中

「測定することができ」の下に「、直線性が0.1パーセント以下で」を、

「もの」の下に「又はその部分品」を加え、

同項ロ中

「、探針の実効測定直径が0.5ミリメートル未満で、かつ」を削り、

「もの」の下に「のうち、探針の実効測定直径が0.5ミリメートル未満のもの若しくは直線性が0.3パーセント未満のもの又はこれらの部分品」を加え、

同項ハ中

「もの」の下に「又はその部分品」を加え、

同項ニ中

「できるもの」を「でき、かつ、直線性が0.2パーセント以下のもの」に改め、

同項ホ中

「もの」の下に「又はその部分品」を加え、

同項に次のように加える。

ヘ　曲面の長さ及び角度を同時に測定することができるように設計した接触型の測定装置であつて、測定精度が測定距離５ミリメートル当たり0.005ミリメートル以下で、かつ、測定角度90度当たり１分以下のもの又はその部分品

別表第１の八四の項及び八五の項中

「附属品」の下に「（一六九の六の項に掲げる推進装置に該当するガスタービンエンジンの製造用の機械装置及び工具並びにこれらの部分品を除く。）」を加える。

別表第１の九〇の項中

「金属工作機械及び」を「工作機械及び」に改め、

同項イ(二)中

「もの」の下に「（同時に制御することができる軸数が４であるもののうち、直線運動を制御する軸の数が３で、回転運動を制御する軸（テーブルの回転運動を制御する軸にあつては、軸の方向がテーブルに垂直でないものを除く。）の数が１であるものを除く。）」を加え、

同項イ(四)中

「日本工業規格B6330号（数値制御工作機械の試験方法通則）3.8」を「日本工業規格B6201号（工作機械の試験方法通則）5.3」に改め、

同項イ(六)中

「に直結する」を「を駆動する」に改め、

同項イ(七)中

「振れが」の下に「それぞれ」を加え、

同項ハ中

「若しくはロ」を「からハまで」に、

「金属工作機械又はロ」を「工作機械又はニ」に改め、

(三)を(四)とし、

(二)を(三)とし、

(一)を(二)とし、

(二)の前に次のように加える。

(一)スピンドル及び軸受を用いた組立品であつて、次のいずれかに該当するもの

１　旋盤用のものであつて、スピンドルを１回転させた場合におけるスピンドルの軸方向及び半径方向の振れがそれぞれ0.0008ミリメートル以上のもの

２　中ぐり盤用、フライス盤用、マシニングセンター用又はジグ研削盤用のものであつて、スピンドルを１回転させた場合におけるスピンドルの軸方向及び半径方向の振れがそれぞれスピンドルの直径の0.002パーセント以上のもの

別表第１の九〇の項ハを同項ホとし、

同項ロ中

「及びマシニングセンター以外の金属工作機械又は物体の形状を測定する装置」を「、マシニングセンター及びジグ研削盤以外の工作機械」に改め、

同項ロ(二)中

「日本工業規格B6330号3.8」を「日本工業規格B6201号5.3」に改め、

同項ロを同項ハとし、

同項ハの次に次のように加える。

ニ　物体の形状を測定する装置であつて、次のいずれかに該当するもの

(一)同時に制御することができる軸数が４以上のもの（同時に制御することができる軸数が４であるもののうち、直線運動を制御する軸の数が３で、回転運動を制御する軸（テーブルの回転運動を制御する軸にあつては、軸の方向がテーブルに垂直でないものを除く。）の数が１であるものを除く。）

(二)18度以上22度以下の温度範囲において軸の全長について日本工業規格Ｂ6201号5.3で定める測定方法により測定したときの位置決め精度が次の数値未満のもの

１　最大移動量が3,300ミリメートル以下の軸にあつては、ミリメートルで表した最大移動量を300,000で除し、0.003ミリメートルを加えて得た数値

２　最大移動量が3,300ミリメートルを超える軸にあつては、0.014ミリメートル

(三)18度以上22度以下の温度範囲において日本工業規格Ｂ6201号5.3で定める測定方法により測定したときの位置決め精度が90度当たり５秒未満のもの

別表第１の九〇の項イの次に次のように加える。

ロ　ジグ研削盤であつて、次のいずれかに該当するもの

(一)同時に制御することができる軸数が３以上のもの

１　最大移動量が300ミリメートル以下の軸にあつては、0.005ミリメートル

２　最大移動量が300ミリメートルを超える軸にあつては、ミリメートルで表した最大移動量を150,000で除し、0.003ミリメートルを加えて得た数値

別表第１の九一の項中

「金属工作機械」を「工作機械」に改め、

同項ハ中

「日本工業規格C6361号」を「日本工業規格X5101号」に改める。

別表第１の九二の項中

「テトラフロロエチレンの共重合体等」を「二七の項ニに掲げるふっ素化合物」に改める。

別表第１の九三の項を次のように改める。

一五〇の項イに掲げる記録媒体（同項の告示で定めるものを除く。）の製造用に設計した磁粉塗布装置及び監視用、選別用又は試験用の機械装置であつて、次のいずれかに該当するもの並びにこれらの部分品

イ　ポリエステルをべースとした磁気テープの製造用に設計した連続磁粉塗布装置記録密度が１センチメートル当たり2,460ビットを超えるフレキシブルディスクの製造用に設計した磁粉塗布装置

ロ　記録密度が１センチメートル当たり2,460ビットを超えるフレキシブルディスクの製造用に設計した磁粉塗布装置

ハ　フレキシブルディスク以外の磁気ディスクの製造用に設計した磁粉塗布装置

ニ　磁気テープ以外の記録媒体の製造用に設計した監視用、選別用又は試験用の機械装置であつて、蓄積プログラム制御方式のもの

特定地域

別表第１の九五の項ロ(一)中

「10年（酸化銀及び亜鉛の電極を用いたものにあつては、３年）」を「３年」に改め、

同項ロ(二)中

「リチウム電池」を「リチウム若しくはカルシウム又はこれらの合金の電極を用いたもの」に、

「開始したときの電圧の90パーセント」を「開始する直前の電圧の80パーセント」に、

「二二〇」を「二五〇」に、

「七七」を「八〇」に改め、

同項ロに次のように加える。

(三)正極に酸素を、負極にリチウム又はアルミニウムを用いたものであつて、出力が５キロワット以上のもの又は容量が５キロワット時以上のもの

別表第１の九五の項中

ホをヘとし、

ニをホとし、

ハをニとし、

ロの次に次のように加える。

ハ　二次電池であつて、次のいずれかに該当するもの

(一)ニッケル及び水素を活物質とするものであつて、放電及び充電を５時間率放電電流で20回繰り返した後、５時間率放電電流で電圧が放電を開始する直前の電圧の75パーセントになるまで放電を行つた場合におけるワットで表した平均放電出力と時で表した放電時間の積をキログラムで表した電池の重量で除して得た数値が、24度の温度において55を超えるもの

(二)リチウム若しくはリチウム合金の電極を用いたもの又はナトリウムを活物質とするものであつて、放電及び充電を５時間率放電電流で20回繰り返した後、５時間率放電電流で電圧が放電を開始する直前の電圧の75パーセントになるまで放電を行つた場合におけるワットで表した平均放電出力と時で表した放電時間の積をキログラムで表した電池の重量で除して得た数値が、定格動作温度において55を超えるもの

別表第１の一〇〇の項中

「心合わせ装置」の下に「（一〇〇の二の項に掲げるものを除く。）」を加え、

同項の次に次のように加える。

一〇〇の２

ジャイロスコープ及び加速度計並びにこれらを用いた装置であつて次のいずれかに該当するもののうち、一六九の二の項に掲げるロケット又は500キログラム以上の有効搭載量を300キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるもの並びに同項に掲げるロケット用の航法装置であつてジャイロスタビライザー又は自動操縦装置とともに使用するように設計したもの並びにこれらの部分品、試験装置、校正装置及び心合わせ装置

イ　ジャイロスコープであつて、次のいずれかに該当するもの

(一)9.81メートル毎秒毎秒の加速度を加えた場合における摂動が１時間当たり0.5度未満のもの

(二)981メートル毎秒毎秒を超える加速度で使用することができるもの

ロ　加速度計であつて、次のいずれかに該当するもの

(一)慣性航法装置用又は誘導装置用のものであつて、0.0491メートル毎秒毎秒以下の加速度を測定することができるもの又は誤差が測定範囲の0.25パーセント未満のもの

(二)サーボ方式又は力平衡方式のものであつて、981メートル毎秒毎秒を超える加速度を測定することができるもの

ハ　天体の自動追跡により位置又は進路を測定することができる装置

ニ　イに掲げるジャイロスコープ又はロに掲げる加速度計を用いた装置

全地域

別表第１の一〇一の項中

「工具」の下に「（型を含む。）」を加え、

同項の次に次のように加える。

一〇一の２

一〇〇の二の項に掲げるジャイロスコープ及び加速度計並びにこれらを用いた装置並びに航法装置の製造用の機械装置、検査装置、試験装置及び工具（型を含む。）

全地域

別表第１の一〇五の項の次に次のように加える。

一〇五の２

ロケット搭載用又は無人航空機搭載用の探知装置であつて、次のいずれかに該当するもの

イ　一平方センチメートル当たり1,000,000,000,000中性子以上の中性子線による影響を防止するように設計したもの

ロ　１秒につき1,000,000,000ラド以上のガンマ線による影響を防止するように設計したもの

ハ　1,500ラド以上の放射線による影響を防止するように設計したもの

全地域

別表第１の一〇九の項中

「無線遠隔制御装置」の下に「（一〇九の二の項に掲げる無線遠隔測定装置及び無線遠隔制御装置を除く。）」を加え、

同項の次に次のように加える。

一〇九の２

ロケット用又は無人航空機用の無線遠隔測定装置及び無線遠隔制御装置

全地域

別表第１の112項チ中

「テトラフロロエチレンの共重合体等」を「二七の項二に掲げるふっ素化合物」に改める。

別表第１の一一五の項イを次のように改める。

イ　プログラムの書換えができるものであつて、書換え可能なプログラム及びデータの記憶容量が65,536ビットを超えるもの

別表第１の一一五の項トを次のように改める。

ト　プログラムの書換えができる検査用計測器であつて、次のいずれかに該当するもの（通商産業大臣が告示で定めるものを除く。）

(一)デジタル信号の検査用に設計されたもの

(二)１秒間に100,000,000を超えるサンプリングをすることができるもの

(三)チャネルの数が32を超えるもの

(四)１秒間にすることができるサンプリングの数とチャネルの数の積が400,000,000を超えるもの

(五)検査データの記憶容量が32,768ビットを超え、かつ、１チャネル当たり1,024ビットを超えるもの

(六)検査データの記憶容量が16,384ビットを超え、かつ、１チャネル当たり2,048ビットを超えるもの

別表第１の一一五の項チ中

「機械又は装置に組み込んだ」を削る。

別表第１の一一八の項中

リをルとし、

チをヌとし、

トをリとし、

へをチとし、

同項ホ中

「80デシベル」を「92デシベル」に改め、

同項中

ホをトとし、

ニをヘとし、

ハをホとし、

同項ロ中

「信号波を」を「搬送周波数を」に、

「信号波に対する位相雑音」を「搬送波に対する全位相雑音」に、

「信号波に対する振幅変調雑音」を「搬送波に対する全振幅変調位相雑音」に改め、

同項ロを同項ニとし、

同項イの次に次のように加える。

ロ　搬送周波数に20,000ヘルツを加えた周波数において、搬送波に対する位相雑音の比がマイナスー20デシベル未満のもの

ハ　搬送周波数に100ヘルツを加えた周波数において、搬送波に対する位相雑音の比がマイナス106デシベル未満のもの

別表第１の一二〇の項イ中

「又はその部分品」を削り、

同項ニからチまでを次のように改める。

ニ　導波管の部分品であつて、次のいずれかに該当するもの

(一)バンド幅比が1.7を超え、かつ、方向性が20デシベル以上の方向性結合器

(二)回転連結器であつて、隔離された二以上の伝送路を有するもの又はバンド幅がその中心周波数の５パーセントを超えるもの

(三)マグネチック特性を利用する導波管用のもの

(四)一二九の項に掲げる半導体ダイオードを組み込んだもの

ホ　ストリップ線路を用いたマイクロ波用回路であつて、次のいずれかに該当するもの

(一)マグネチック特性を利用するもの

(二)一二九の項に掲げる半導体ダイオードを組み込んだもの

ヘ　誘電体として機能する絶縁基板若しくは能動回路素子を含む集積回路を用いたマイクロ波用回路又はこれらの部分品

ト　３ギガヘルツ以上の周波数で使用することができるように設計した導波管若しくはマイクロ波用回路であつて、フィルターを用いたもの又はこれらの部分品

チ　30ギガヘルツを超える周波数で使用するように設計したアンテナ（フェーズドアレーアンテナを除く。）であつて、直径が１メートル未満のもの又はその部分品

別表第１の一二〇の項に次のように加える。

リ　ピーアイエヌダイオードを用いた変調器

別表第１の一二二の項を次のように改める。

122

増幅器（電子管を用いないものに限る。）であつて、次のいずれかに該当するもの（バンド幅が10メガヘルツ以下のもの及び有線テレビジョン放送用に設計したものを除く。）並びにその部分品及び附属品

イ　10メガヘルツを超え、35メガヘルツ以下の周波数範囲で作動するときの最大出力が２キロワットを超えるもの

ロ　35メガヘルツを超え、400メガヘルツ以下の周波数範囲で作動するときの最大出力が50ワットを超えるもの

ハ　400メガヘルツを超える周波数で作動するときのメガヘルツで表した動作周波数とワットで表した最大出力との積が20,000を超えるもの

特定地域

別表第１の一三〇の項イ(一)中

「1,000メガヘルツ」を「1,500メガヘルツ」に改め、

同項イ(三)中

「メガヘルツで」を「かつ、メガヘルツで」に、

「5,000」を「10,000」に改め、

同項イ(四)を次のように改める。

(四)多数キャリア方式のもの。ただし、電界効果型のものであつて、次のいずれかに該当するものを除く。

１　最大電力損失が６ワット以下で、かつ、動作周波数が1,000メガヘルツ以下のもの

２　最大電力損失が１ワット以下で、かつ、動作周波数が2,000メガヘルツ以下のもの

３　可聴周波用のもの

別表第１の一三〇の項ロ中

「及びシリコン」を「、シリコン及び化ガリウム」に改め、

同項ロを同項ハとし、

同項イの次に次のように加える。

ロ　主材料に砒化ガリウムを用いたものであつて、次のいずれかに該当するもの

(一)動作周波数が1,000メガヘルツを超えるもの

(二)最大電力損失が１ワットを超えるもの

(三)雑音指数が３デシベル未満のもの

別表第１の一三一の項ニ中

「二五」を「一〇〇」に改める。

別表第１の一三六の項中

「電子密度変調管であつて、次のいずれかに該当するもの」の下に「及びその部分品」を加える。

別表第１の一三七の項中

「電子速度変調管」の下に「及びその部分品」を加え、

「該当するものを除く」を「該当するもの及びその部分品を除く」に改め、

同項イ(一)中

「作動するときの」を「作動し、かつ、」に、

「1.5メガワット」を「５メガワット」に改め、

同項イ(二)中

「作動するときの、」を「作動し、かつ、」に改め、

「もの」の下に「（可変周波数型のものにあつては、通商産業大臣が告示で定めるものを除く。）」を加え、

同項ロを次のように改める。

ロ　クロスフィールド増幅管であつて、次の(一)から(四)までに該当するもの

(一)４ギガヘルツ未満の周波数で作動するもの

(二)最大定格平均出力が1.2キロワット以下のもの

(三)バンド幅が200メガヘルツ未満のもの

(四)電力利得が15デシベル未満のもの

別表第１の一三七の項ハ(一)中

「作動するものであつて」を「作動し、かつ」に改め、

同項ハ(二)中

「作動するものであつて」を「作動し、かつ」に、

「25キロワット」を「35キロワット」に改める。

別表第１の一三八の項中

「該当するもの」の下に「及びその部分品」を加える。

別表第１の一三九の項中

「20メガワット以上のもの」の下に「並びにこれらの部分品」を加え、

同項の次に次のように加える。

一三九の２

バリウム化合物を含浸させた陰極であつて、１平方センチメートル当たり0.5アンペアを超える電流を発生させることができるもの

特定地域

別表第１の一四一の項イ(二)４中

「線膨張係数が」の下に「プラスマイナス」を加え、

同項ロ(二)中

「マイクロプロセッサー、マイクロコンピューター、記憶用集積回路若しくは」を削り、

「一四三の項に掲げる集積回路」を「集積回路（一四三の項イからニまでに該当するものを除く。）」に改める。

別表第１の一四三の項中

「ただし、」の下に「一四三の二及び一四三の三の項に掲げる集積回路並びに」を加え、

同項ロ中

「(七)まで、(九)、(十一)から(十九)まで、（二十一）及び（二十二）」を「(九)まで、(十一)、(十三)から（二十一）まで、（二十三）及び（二十四）」に、

「(八)及び(十)」を「(十)及び(十二)」に改め、

同項ロ(二)中

「１個のシリコンチップを用いたマイクロコンピューター」を「シリコンマイクロコンピューター」に改め、

同項ロ(四)中

「設計したもの」の下に「（(五)に掲げるものを除く。）」を加え、

同項ロ中

（二十二）を（二十四）とし、

（二十一）を（二十三）とし、

同項ロ(二十)中

「写真機若しくは撮影機用」を「医療用電子機器用」に、

「プログラム」を「マイクロプログラム」に改め、

同項ロ(二十)を同項ロ（二十二）とし、

同項ロ(十九)中

「プログラム」を「マイクロプログラム」に、

「(二十)」を「（二十二）」に改め、

同項ロ中

(十九)を（二十一）とし、

(十八)を(二十)とし、

(十七)を(十九)とし、

(十六)を(十八)とし、

(十五)を(十七)とし、

(十四)を(十六)とし、

(十三)を(十五)とし、

(十二)を(十四)とし、

(十一)を(十三)とし、

(十)を(十二)とし、

(九)を(十一)とし、

(八)を(十)とし、

(七)を(九)とし、

(六)を(八)とし、

(五)を(七)とし、

(四)の次に次のように加える。

(五)記憶素子用に設計したものであつて、バイポーラ型のランダムアクセス式のもの又はモス型のスタティックランダムアクセス式のもの

(六)シリコンマイクロプロセッサーの周辺制御用、通信制御用又はカウンター用に設計したピーチャネルモス型又はエヌチャネルモス型のもの

別表第１の一四三の項ハ中

「であつて」の下に「、主材料にシリコンを用いたもので」を加え、

同項ハ(一)中

「デジタル論理回路素子」の下に「、電子制御スイッチ又はしきい値スイッチ」を加え、

同項ハ(三)中

「プログラム」を「マイクロプログラム」に改め、

同項ハに次のように加える。

(四)電圧調整用又は電圧比較用のもの

別表第１の一四三の項ハを同項　ニとし、

同項ロの次に次のように加える。

ハ　セラミックを用いたパッケージ（一四二の項に掲げるものを除く。）でカプセル封じをしたもの（放射線による影響を防止するように設計したものを除く。）であつて、定格動作温度が零下40度以上85度以下の範囲内のもので、次のいずれかに該当するもののうち、通商産業大臣が告示で定めるもの

(一)デジタル論理回路素子、電子制御スイッチ又はしきい値スイッチとして作動するように設計したバイポーラ型のもの

(二)演算増幅用又は可聴周波増幅用のもの

(三)マイクロプログラムの書換えができないもの

(四)電圧調整用又は電圧比較用のもの

別表第１の一四三の項の次に次のように加える。

一四三の２	アナログデジタル変換用の集積回路であつて、次のイからニまでに該当するものイ　一六九の二の項に掲げるロケット又は500キログラム以上の有効搭載量を300キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるものロ　55度を超える温度及び零下45度より低い温度で使用することができるもの又は放射線による影響を防止するように設計したものハ　変換に要する時間が20マイクロ秒未満のものニ　直線性が0.025パーセント未満のもの	全地域
一四三の３	集積回路であつて、次のいずれかに該当するものイ　一平方センチメートル当たり1,000,000,000,000中性子以上の中性子線による影響を防止するように設計したものロ　１秒につき1,000,000,000ラド以上のガンマ線による影響を防止するように設計したものハ　1,500ラド以上の放射線による影響を防止するように設計したもの	全地域

別表第１の一四六の項中

「であつて」を「。ただし」に改め、

「該当するもの」の下に「を除く。」を加え、

同項イからハまでを次のように改める。

イ　繊維状のものであつて、磁性を有していないもの

ロ　磁気損失により電波を吸収するものでないもの

ハ　炭素を含有するプラスチックの発泡体を用いたもの又は磁性材料を混合した有機材料を用いたもの（通商産業大臣が告示で定めるものを除く。）であつて、板状のもののうち、次の(一)から(三)までに該当するもの

(一)引張り強さが７メガニュートン毎平方メートル未満のもの

(二)圧縮強さが14メガニュートン毎平方メードル未満のもの

(三)177度を超える温度で使用することができないもの

別表第１の一四七の項中

「部分品であつて、次のいずれかに該当するもの」の下に「（一四七の二及び一四七の三の項に掲げる電子計算機を除く。）」を加え、

同項の次に次のように加える。

一四七の２	ロケット搭載用又は無人航空機搭載用のアナログ電子計算機及びデジタル電子計算機であつて、55度を超える温度及び零下45度より低い温度で使用することができるもの	全地域
一四七の３	ロケット又は無人航空機の開発用のアナログ電子計算機及びハイブリッド電子計算機	全地域

別表第１の一五〇の項中

「、再生装置及び記録装置に附属させることができる現像装置並びにこれらの部分品並びに記録装置及び再生装置」を「及び再生装置並びにこれら」に改め、

「該当するもの」の下に「並びにこれらの部分品及び附属品」を加え、

同項イ中

「これらの部分品若しくは」を削り、

同項ロ中

「図形の記録装置」の下に「若しくは再生装置」を加え、

「電子ビーム若しくは」を削り、

「若しくは当該記録装置に附属させることができる現像装置若しくはこれらの部分品又は当該記録装置」を「又はこれら」に改め、

同項ハ中

「又はその部分品」を削る。

別表第１の一五四の項中

「附属品」の下に「（石英るつぼを除く。）」を加え、

同項ロ(二)中

「検査装置」の下に「、ペリクルの検査装置」を加え、

同項ロ(三)及び(四)中

「デジタル制御方式」を「蓄積プログラム制御方式」に改め、

同項ロ(六)１中

「電子計算機により制御するもの（受光素子の試験用のものにあつては、デジタル制御方式のものを含む。）」を「蓄積プログラム制御方式のもの」に改め、

同項ロ(六)２及び３中

「デジタル制御方式」を「蓄積プログラム制御方式」に改める。

別表第１の一五五の項ロ(三)及び(四)中

「デジタル方式による制御機能を有する」を「蓄積プログラム制御方式の」に改め、

同項ニ及びホ中

「デジタル方式による制御機能を有し、かつ」を「蓄積プログラム制御方式のもので」に改め、

同項ヘ中

「それぞれデジタル方式による制御機能を有し、かつ」を「蓄積プログラム制御方式のもので」に改め、

同項ヘ(三)中

「日本工業規格B6310号」の下に「（数値制御工作機械の座標軸と運動の記号）」を加え、

同項ト中

「デジタル方式による制御機能を有する」を「蓄積プログラム制御方式の」に改める。

別表第１の一五九の項ロ中

「アナログデジタル変換器又は」を「アナログデジタル変換器（一五九の二の項に掲げるアナログデジタル変換器を除く。）又は」に改め、

同項の次に次のように加える。

一五九の２

アナログデジタル変換器であつて、次のイからハまでに該当するもの

イ　一六九の二の項に掲げるロケット又は500キログラム以上の有効搭載量を300キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるもの

ロ　55度を超える温度及び零下45度より低い温度で使用することができるもの又は放射線による影響を防止するように設計したもの

ハ　電気入力型のものであつて、次のいずれかに該当するもの

(一)最大変換速度が毎秒200,000回を超えるもの

(二)変換誤差が計ることができる最大の量の10,000分の１未満のもの

(三)毎秒当たりの回数で表した変換誤差で除した値が100,000,000以上のもの

全地域

別表第１の一六二の項ホ中

「四〇、五三、六三、七四、八六、九四、九六から一〇〇まで」を「五三、七四、九四、九六、九八から一〇〇の二まで」に、

「若しくは一七六から一八三までの項」を「、一八〇若しくは一八一の項の中欄」に、

「船内」を「室内」に、

「船外」を「室外」に改める。

別表第１の一六四の項の次に次のように加える。

一六四の２

水中で使用することができる写真機及び照明装置並びにこれらの附属装置であつて、次のいずれかに該当するもの

イ　写真機（幅が35ミリメートル以上のフィルムを用いるものに限る。）であつて、次のいずれかに該当するもの又はその附属装置

(一)撮影速度が１秒につき５こまを超えるもの

(二)水深、位置その他の測定データをフィルムに記録することができるもの

(三)フィルムを交換しないで撮影することができるこまの数が250を超えるもの

(四)焦点を自動的に合わせる機能を有するもの

(五)1,000メートルを超える水深で使用することができるもの

ロ　照明装置又はその附属装置であつて、次のいずれかに該当するもの

(一)ストロボ法を用いた照明装置であつて、１回のフラッシュ当たりのエネルギーが150ジュールを超えるもの又はフラッシュの回数が１秒につき５を超え、かつ、１回のフラッシュ当たりのエネルギーが10ジュールを超えるもの

(二)1,000メートルを超える水深で使用することができる照明装置又はその附属装置

特定地域

別表第１の一六七の項中

「並びにその部分品、附属品及び補助用機械器具」を「及びその部分品であつて、次のいずれかに該当するもの」に改め、

同項に次のように加える。

イ　飛行機又は回転翼航空機（五三、七四、九七から一〇〇の二まで、一〇二、一〇四、一三四、一三二五、一七一から一七三まで又は一八一の項の中欄に掲げる貨物を組み込んだものに限る。）

ロ　回転翼航空機用の伝動装置又はその部分品

ハ　飛行機用若しくは回転翼航空機用のガスタービンエンジン若しくは補助動力装置又はこれらの部分品（一六九の六の項イ及びハに該当する推進装置並びにこれらの部分品を除く。）

別表第１の一六九の項中

「飛しよう体」を「飛しょう体」に改め、

「部分品」の下に「。ただし、次のいずれかに該当するものを除く。」を加え、

同項に次のように加える。

イ　一六九の二の項に掲げるロケット

ロ　一六九の三の項に掲げるロケットの部分品

ハ　一六九の四の項に掲げる姿勢制御装置

ニ　一六九の五の項に掲げるアビオニクス装置又はその部分品

ホ　一六九の六の項ロ若しくはハに該当する推進装置又はこれらの部分品

ヘ　一六九の七の項に掲げるレードーム

別表第１の一六九の項の次に次のように加える。

一六九の２	ロケットであつて、500キログラム以上の有効搭載量を300キロメートル以上運搬することができるもの	全地域
一六九の３	ロケットの部分品であつて、次のいずれかに該当するもののうち、一六九の二の項に掲げるロケットに使用することができるものイ　多段ロケットの各段ロ　再突入機ハ　再突入機の熱遮へい体（セラミック又はアブレーシヨン材料を用いたものに限る。）若しくは放熱材又はこれらの部分品ニ　再突入機に使用するように設計した電子機器ホ　固体燃料又は液体燃料を使用するエンジンであつて、全力積が1,112,454ニュートン秒以上のものヘ　推力の方向を制御する装置	全地域
一六九の４	一六九の二の項に掲げるロケット用の姿勢制御装置並びにその試験装置、校正装置及び心合わせ装置	全地域
一六九の５	一六九の二の項に掲げるロケット用のアビオニクス装置及びその部分品	全地域
一六九の６	推進装置及びその部分品であつて、次のいずれかに該当するものイ　ターボジェットエンジン、ターボファンエンジン又はラムジェットエンジンであつて、500キログラム以上の有効搭載量を300キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるものロ　固体燃料を使用するロケットの燃焼室又は多段ロケットの切離し装置であつて、一六九の二の項に掲げるロケットに使用することができるものハ　液体燃料制御装置であつて、周波数が20ヘルツ以上2,000ヘルツ以下で、かつ、加速度の実効値が117.72メートル毎秒毎秒を超える振動に耐えることができるように設計したもの又はその部分品（一六九の二の項に掲げるロケット又は500キログラム以上の有効搭載量を300キロメートル以上運搬することができる無人航空機に使用することができるものに限る。）	全地域
一六九の７	ロケット又は無人航空機のレードームであつて、0.492149キログラム毎平方センチメートル以上の圧力において、１平方センチメートル当たり100カロリーを超える熱衝撃に耐えることができるもの	全地域
一六九の８	一六九の二の項に掲げるロケット、一六九の三の項に掲げるロケットの部分品並びに一六九の六の項に掲げる推進装置及びその部分品の製造用の機械装置、工具（型を含む。）及び試験装置並びにこれらの部分品	全地域
一六九の９	一六九の二の項に掲げるロケツトを発射する装置	全地域
一六九の10	ロケット又は無人航空機の追跡装置であつて、当該ロケット又は無人航空機に搭載した中継器からの電波を利用するもの	全地域

別表第４第１号中

「過酸化水素」の下に「（濃度が85パーセント以上のものに限る。）」を、

「過塩素酸アンモニウム」の下に「（別表第１の三〇の二の項に掲げる過塩素酸アンモニウムの粉を除く。）」を加え、

「、ヒドラジン」及び「、ジメチルヒドラジン」を削る。

別表第４第２号中

「並びにその部分品及び附属品」を「及びその部分品」に改める。

別表第４第４号中

「、一四」を削り、

「三一」の下に「、三二、三三、三四、三五」を加える。

20	車両用の往復動ディーゼルエンジンであつて、次のイ及びロに該当するものの設計又は製造に係る技術イ　体積が1.2立方メートル以下のものロ　工業標準化法（昭和24年法律第185号）に基づく日本工業規格Ｄ1001号（自動車用エンジン出力試験方法）で定める測定方法により測定したときのグロス軸出力が750キロワットを超え、かつ、キロワットで表したグロス軸出力を立方メートルで表した体積で除した値が700を超えるもの	特定地域
21	往復動ディーゼルエンジンのシリンダー用の潤滑剤であつて、450度を超える温度で使用することができるものの設計又は製造に係る技術	特定地域
22	航空機（軍用のものを除く。）及びその部分品の設計、製造又は使用に係る技術であつて、次のいずれかに該当するものイ　飛行機又は回転翼航空機に搭載される飛行管理用の電子計算機の設計又は使用に係る技術（二三の項に掲げるものを除く。）ロ　飛行機の構造用部材（120度を超える温度で使用することができるものに限る。）、プロペラ、ブレード若しくはハブであつて複合材料を用いたもの又は主翼の設計又は製造に係る技術ハ　回転翼航空機の翼の制御装置又は翼（ブレードの形状を変化させることができるものに限る。）の設計に係る技術ニ　飛行機に搭載される電子装置に対する電磁障害又は電磁パルスによる影響を防止するための装置の設計に係る技術ホ　飛行機のプロペラの制御用の電子機器であつてデジタル方式のものの設計又は製造に係る技術ヘ　輸出貿易管理令別表第１の一六七の項に掲げる航空機及びその部分品の設計、製造又は使用に係る技術	特定地域
23	ロケット又は無人航空機に搭載される飛行管理用の電子計算機の設計、製造又は使用に係る技術	全地域
24	ロケット又は無人航空機の位置を測定する追跡装置の設計、製造又は使用に係る技術	全地域